pvd真空鍍膜加工均勻性要求-東莞千屹電鍍廠

瀏覽：- 發(fā)布日期：2018-08-25 11:47:42【大中小】

pvd真空鍍膜加工膜層的均勻性主要包括成分均勻、組織結構均勻和膜層厚度的均勻，使得產(chǎn)品膜層在各種性能下得到很好的均勻。東莞千屹電鍍廠對于產(chǎn)品的鍍膜加工均勻性是有要求的。

材料的性能由其成分與組織結構所決定，膜層必須獲得所設計的膜系成分和組織結構均勻一致。千屹pvd真空鍍膜加工專注不銹鋼材質(zhì)膜層加工，電鍍靶材為是金屬靶材。薄膜是二維材料，耐磨性以及耐腐蝕性都與膜層的厚度有關，所以膜的厚度是重要的材料技術指標。

pvd真空鍍膜加工的成分來源于鍍料，所以沉積物的物種及其比例在沉積過程中要穩(wěn)定供給。不僅如此，組織結構的均勻性在這過程中也要求保持一致。沉積物的總量越多，鍍膜的膜層厚度越高，當然，這得以膜致密度相同為前提。

我們的優(yōu)勢：

◆ 引進德國真空鍍膜設備，300℃高溫真空爐，使電鍍品更耐磨、色澤穩(wěn)定不易褪色；

◆ 配備全自動環(huán)保清洗過濾機，無塵車間操作，5S車間管理體系，ERP生產(chǎn)管理系統(tǒng)；

◆ 現(xiàn)有從事多年電鍍行業(yè)生產(chǎn)、管理和加工技術人員200余人，其中核心真空鍍膜技術人員8人；

◆ 所有產(chǎn)品均采用真空爐內(nèi)納米離子鍍膜及磁控濺射處理，所應用的鍍料均有合格的檢測證明，電鍍質(zhì)量高，綠色環(huán)保；

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責任編輯：東莞市千屹真空技術有限公司

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