千屹pvd真空電鍍告訴您什么是金屬濺射鍍膜

瀏覽：- 發(fā)布日期：2019-02-19 17:08:16【大中小】

濺射現(xiàn)象是pvd真空電鍍的一種高能粒子轟擊固體表面時(shí)能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面，沉積在基片上。將欲沉積的材料制成板材──靶，固定在陰極上?；糜谡龑?duì)靶面的陽(yáng)極上，距靶幾厘米。系統(tǒng)抽至高真空后充入10～1帕的氣體（通常為氬氣），在陰極和陽(yáng)極間加幾千伏電壓，兩極間即產(chǎn)生輝光放電。

pvd真空電鍍金屬放電產(chǎn)生的正離子在電場(chǎng)作用下飛向陰極，與靶表面原子碰撞，受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子，其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。與蒸發(fā)鍍膜不同，濺射鍍膜不受膜材熔點(diǎn)的限制，濺射化合物膜可用反應(yīng)濺射法。沉積絕緣膜可采用高頻濺射法。基片裝在接地的電極上，絕緣靶裝在對(duì)面的電極上。
高頻電源一端接地，一端通過(guò)匹配網(wǎng)絡(luò)和隔直流電容接到裝有絕緣靶的電極上。接通高頻電源后，高頻電壓不斷改變極性。等離子體中的電子和正離子在電壓的正半周和負(fù)半周分別打到絕緣靶上。由于電子遷移率高于正離子，絕緣靶表面帶負(fù)電，在達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡時(shí)，靶處于負(fù)的偏置電位，從而使正離子對(duì)靶的濺射持續(xù)進(jìn)行。pvd真空電鍍采用磁控濺射可使沉積速率比非磁控濺射提高近一個(gè)數(shù)量級(jí)。

我們電鍍：

1、時(shí)尚首飾品
（不銹鋼項(xiàng)鏈、不銹鋼戒指、不銹鋼手鐲、不銹鋼耳飾等一些不銹鋼/鈦鋼飾品）
2、小五金產(chǎn)品
（鐘表、手機(jī)殼、手機(jī)攝像頭、皮帶扣、鑰匙扣、U盤(pán)（電子數(shù)碼）、箱包拉鏈配件等）
主要電鍍顏色：
IP金色（IPGIN18，IPGIN14），IP玫瑰金，IP黑色，IP槍色，IP藍(lán)色，IP鉻色，IP咖啡色及各種顏色的IP間色加工。
我們的優(yōu)勢(shì)：

◆ 引進(jìn)德國(guó)真空鍍膜設(shè)備，300℃高溫真空爐，使電鍍品更耐磨、色澤穩(wěn)定不易褪色；
◆ 配備全自動(dòng)環(huán)保清洗過(guò)濾機(jī)，無(wú)塵車(chē)間操作，5S車(chē)間管理體系，ERP生產(chǎn)管理系統(tǒng)；
◆ 現(xiàn)有從事多年電鍍行業(yè)生產(chǎn)、管理和加工技術(shù)人員200余人，其中核心真空鍍膜技術(shù)人員8人；
◆ 所有產(chǎn)品均采用真空爐內(nèi)納米離子鍍膜及磁控濺射處理，所應(yīng)用的鍍料均有合格的檢測(cè)證明，電鍍質(zhì)量高，綠色環(huán)保；

地址：東莞市長(zhǎng)安鎮(zhèn)涌頭圍村工業(yè)區(qū)海怡路5號(hào)

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