一般的，真空電鍍工藝包括：真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型。它們都是選用在真空條件下，在一些鍍金電鍍廠通過(guò)蒸餾或?yàn)R射等方法在塑件表面堆積各種金屬（主要是不銹鋼電鍍）和非金屬薄膜，通過(guò)鍍金電鍍的方法可以得到非常薄的表面鍍層，具有速度快附著力好的性能，但因此報(bào)價(jià)也較高，可以進(jìn)行操作的金屬類型較少，通常用來(lái)作產(chǎn)品的功能性鍍層， 例如作為內(nèi)部屏蔽層運(yùn)用。多見的塑膠產(chǎn)品電鍍技能有兩種：水電鍍和真空離子鍍.
用在不銹鋼電鍍方面的是：真空離子鍍，又稱真空鍍膜.真空電鍍的做法現(xiàn)在是一種對(duì)比盛行的做法，做出來(lái)的產(chǎn) 品金屬感強(qiáng)，亮度高．而相對(duì)其他的鍍膜法來(lái)說(shuō)，本錢較低，對(duì)環(huán)境的污染小，現(xiàn)在為各行業(yè)廣泛選用．
真空電鍍法是在高度真空條件下加熱金屬，使其熔融、蒸發(fā)，冷卻后在塑料表面構(gòu)成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點(diǎn)金屬。加熱金屬的方法：有運(yùn)用電阻發(fā)作的熱能，也有運(yùn)用電子束的。
一些東莞電鍍廠在對(duì)塑料成品施行蒸鍍時(shí)，為了使金屬冷卻時(shí)所散發(fā)出的熱量不使樹脂變形，有必要對(duì)蒸鍍時(shí)間進(jìn)行調(diào)整。此外，熔點(diǎn)、沸點(diǎn)太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。
置待鍍金屬和被鍍塑料成品于真空室內(nèi)，選用一些方法加熱待鍍資料，使金屬蒸發(fā)或行進(jìn)，金屬蒸汽遇到冷的塑料成品表面凝集成金屬薄膜。
在真空條件下可減少蒸發(fā)資料的原子、分子在飛向塑料成品進(jìn)程中和其他分子的磕碰，減少氣體中的 活性分子和蒸發(fā)源資料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），然后供應(yīng)膜層的致密度、純度、堆積速率和與附著力。通常真空電鍍懇求成膜室內(nèi)壓力等于或低于 10-2Pa，關(guān)于蒸發(fā)源與被鍍成品和薄膜質(zhì)量懇求很高的場(chǎng)合，則懇求壓力更低（ 10-5Pa ）。
鍍層厚度0.04-0.1um太薄，反射率低；太厚，附著力差，易掉落。厚度0.04時(shí)反射率為90%。
